VAF-300真空电弧熔炼炉

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VAF-300真空电弧熔炼炉——科研级高熔点金属熔炼的理想之选

在材料科学研究领域,高熔点金属、活泼金属及特种合金的制备,对熔炼设备的温度上限和真空环境提出了严苛要求。VAF-300真空电弧熔炼炉正是为此而生——一款专为高等院校、科研院所及企业研发实验室设计的小型电弧熔炼设备。

该设备可在不破坏气体保护气氛的条件下翻转合金锭进行多次熔炼,且可同时制备多个样品,是制备难熔金属及金属碳化物试样的理想工具。

? 核心技术参数

参数项目技术指标
型号VAF-300
最高熔炼温度3000℃(可熔各种难熔金属)
工作电流500A
熔炼坩埚5个工位,半球锅(SR25),单工位最大熔炼量50g(按铁液计算)
真空腔体尺寸立式圆柱型,Dia300×340mm
极限真空度(分子泵机组)<5×10⁻⁴Pa
极限真空度(扩散泵机组)<5×10⁻³Pa
升压率<4Pa/h
钨电极直径10mm,非自耗式,电极与样品角度和距离可调(最大调节距离80mm)
引弧方式高频引弧,手动升降
控制精度±1~5℃(600℃以上)
工作气氛高纯Ar气(5N)或5%H₂+95%Ar
真空吸铸装置可铸造直径5mm、长度65mm的金属棒
机组输入电压380V / 220V

⚙️ 核心设计亮点

  • 多工位水冷铜坩埚:配备5个半球形工位(SR25),可同时制备多个样品,有效避免样品间相互污染。

  • 真空吸铸功能:底部工位集成吸铸装置,可铸造直径5mm、长度65mm的金属棒,满足非晶材料制备需求。

  • 机械手翻转机构:可在不破坏真空及保护气氛的条件下翻转合金锭,实现多次熔炼以保证成分均匀性。

  • 全水冷设计:真空室、铜坩埚、起弧电极均采用水冷冷却方式,确保设备长期稳定运行。

  • 方向盘式电极升降:操作摇杆转动灵活,升降控制精准便捷。

  • LED照明与观察窗:腔体后方安装LED照明灯,前方及左侧设有观察窗,方便实时观测起弧熔化状态。

  • 电磁搅拌功能(选配):通过线圈通电产生磁场,驱动金属液在磁场中运动,促进合金成分均匀化。

? 应用领域

VAF-300真空电弧熔炼炉广泛适用于:

  • 高熔点金属熔炼(钛、锆、钨、钼、钽、铌等)

  • 新型合金材料的开发与成分优化

  • 大块非晶材料的真空吸铸制备

  • 稀土金属及合金的熔炼处理

莱步科技为VAF-300提供分子泵机组与扩散泵机组两种真空配置方案,支持根据客户需求定制坩埚工位数量与尺寸。如需了解更多产品详情与选型建议,欢迎致电莱步科技服务热线025-85351861

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