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箱式炉|管式炉|气氛炉|行星式球磨机

KBF1200气氛箱式炉

KBF1200气氛箱式炉详细介绍:

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KBF1200气氛箱式炉以瑞典康泰尔电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,30分钟内能达到1000度,采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫并通有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进出,有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体,并可以用真空泵预抽真空排除炉膛内气体,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品.

OTL1200不锈钢管式炉

OTL1200不锈钢管管式炉详细介绍:

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产品描述:OTL1200不锈钢管管式炉真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。电源电压为220V,最高温度可达1200度。

KTL1800单温区气氛管式炉

KTL1800气氛管式炉详细介绍:

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   KTL1800气氛管式炉以瑞典Kanthal 1900型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电控温仪表,能进行40段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用美国进口99.9高纯刚玉管、两端用不锈钢法兰密封,用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.。

KTL1700气氛管式炉

 KTL1700气氛管式炉详细介绍:

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KTL1700气氛管式炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电控温仪表,能进行40段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用进口99.9高纯刚玉管、两端用不锈钢法兰密封,用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.。

KTL1600单温区气氛管式炉

 KTL1600单温区气氛管式炉详细介绍:

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KTL1600气氛管式炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电控温仪表,能进行40段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,炉管两端能不锈钢法兰密封,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

KTL1400气氛管式炉

KTL1400气氛管式炉详细介绍:

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KTL1400气氛管式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电控温仪表,能进行40段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,用流量计控制进气流量 炉管两端能不锈钢法兰密封,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,KTL1400管式炉为卧式,使用方便,操作简单,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.。

OTL1200真空气氛管式炉

 OTL1200管式炉详细介绍:

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 OTL1200气氛管式炉以电阻丝(瑞典 Canthal A1)为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

OTL1200-S管式炉

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OTL1200-S管式炉详细介绍:

OTL1200-S 管式炉外观小巧,以优质电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,过零触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,炉管两端能不锈钢法兰密封,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3Pa,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。

QM-80型高速振动球磨机

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QM-80型高速振动球磨机是用于实验室样品(少量、微量)制备的一种高效能的小型仪器

QM-QX全方位行星式球磨机

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用途:QM-QX全方位行星式球磨机是混和、细磨、小样制备、新产品研制和小批量生产高新技术材料的必备装置。该产品体积小、功能全、效率高、噪声低,是科研单位、高等院校、企业实验室获取研究试样(每次实验可同时获得四个样品)的理想设备,配用真空球磨罐,可在真空状态或惰性气体保护状态下磨制试样。该产品能用干、湿两种方法粉碎和混和粒度不同,材料各异的产品,研磨产品最小粒度可至0.1微米(即1.0×10-4mm)。广泛应用于土壤、地质、矿产、冶金、电子、建材、陶瓷、化工、轻工、医药、环保等部门。

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