欢迎光临~南京晟昌实验仪器有限公司
  咨询电话:4008-678-117

PECVD系统

  • OTL-PECVD-1200-1400-1200三温区PECVD系统
OTL-PECVD-1200-1400-1200三温区PECVD系统

OTL-PECVD-1200-1400-1200三温区PECVD系统

  • 型号: OTL-PECVD-1200-1400-1200
  • 产品描述:OTL-PECVD-1200-1400-1200三台滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统、电动拖动机构组成。
  • 在线订购

OTL-PECVD-1200-1400-1200三温区PECVD系统,由三台滑竿式真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统、电动拖动机构组成。

主要特点:

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5、广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

这款三温区PECVD系统是一款能够快速加热、冷却的PECVD系统,是在三台管式炉安装一对电动滑轨,可用电动滑动系统。加热和冷却速率最大可达100°C/min。为取得最快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得最快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s,是低成本快速加热、冷却的双温区PECVD系统。

这款三温区PECVD系统以瑞典Kanthal电阻丝和硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料,炉管两端采用不锈钢法兰密封,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa, 分两个温区,两个温区可以独立控制、设置不同的温度,使用方便,操作简单,该炉子具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧 结、生长石墨烯、生长各种薄膜的理想产品。

(1)、硅碳棒的热端粗度d为14mm、一般厂家采用的12MM、加热端粗、不容易弯曲、棒子的表面负荷低,使用寿命长。

2)、m冷端长度为210mm, 一般厂家采用180mm, 冷端长炉顶温度低。

(3)、硅碳棒表面氧化非晶膜致密,能够比较好的保护碳棒。

当电路过流或漏电时,空开会自动断开

该气氛管式炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出


(1)、真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。
(2)、采用日本技术成型。
(3)、炉膛材料热容低、热传导系数低,从而散热少、保温好、反射率高。温场均衡。
(4)、炉膛氧化铝丝细而长、耐温高、抗热涨冷缩能力强
(5)、炉膛表面光洁、不易掉粉。

(全部通过UL认证的进口电器)



联系我们

CONTACT US

联系人:张再芳

手 机:13813885135

邮 箱:zhang@laibu.net

公 司:南京晟昌实验仪器有限公司

地 址:江苏省南京市尧化街道科创路1号1幢401室

用手机扫描二维码关闭
二维码